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產品介紹

現址式NH3,HCL,H2O,HF,CO分析儀-LAS5000X

商品編號:LAS5000X
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功能及優點

  • New 內置反吹氣路(ClearPath)功能
  • 高靈敏度和選擇性測量
  • 高信噪比
  • 無測量漂移
  • 回應時間 1 s
  • ppm %的大範圍動態量程
  • 發射器 (Tx) 和接收器 (Rx)之間的即時通信
  • 結構堅固,適用於Ex Zone II (認證即將到來)

💡 反吹氣路(CLEARPATH

  • 消除吹掃區域內相對濕度, O2  CO2 干擾。

運營商受益:

  • 無需 N2 或乾空氣吹掃
  • O2 的高精度測量
  • H2O的高精度測量
  • CO2 的高精度測量

使用者受益

  • 低維護和擁有成本
  • 無需N2 或乾空氣吹掃: 無油無塵空氣儀錶已足夠
  • 優化流程,降低運營成本

應用場合

廣泛應用於CEMS和工業過程

  • 氨逃逸控制(脫硝應用)
  • 過程和燃燒控制
  • 鋁廠HF排放控制
  • HCl/SO2 減排控制
  • 乙烯裂解爐控制
  • 半導體生產中的HCl濃度控制
  • 寵物食品、化肥廠等中的氨濃度控制

 

 

 

測量參數
測量組份 測量範圍
NH3 + H2O 0–10 ppm / 0–5000 ppm + 0–5% / 0–50%
HF 0–3 ppm / 0–500 ppm
CO ppm + H2O 0-50 ppm / 0-1% + 0-10% / 0-50%
CO% + H2O 0-1% / 0-100% + 0-10% / 0-50%
CO% + CO2 0-1% / 0-100% + 0-1% / 0-100%
CO2 + H2O 0-1% / 0-100% + 0-10% / 0-50%
O2 0-1%/ 0-100%
HCl + H2O* 0-10 ppm / 0-5000 ppm + 0-10% / 0-50% (*氣體溫度必須高於150%。 )
其他氣體 根據要求提供其他氣體測量: CH4, H2S, H2, NO...

 

技術規格
技術 ADLAS (先進檢測鐳射吸收光譜法)
• 優化的光機設計
• 高速低漂移電子器件
• 強大的信號處理和演算法
• 獨立光譜技術
更低的檢測限 < 1% of FS
回應時間 (0–90%) – 短 1 s
不匹配/線性 ≤ ±1%
煙氣溫度 (最高°C)
NH3 + H2O / HCl + H2O / HF
CO + H2O / O2 / CO + CO2
+400°C(取決於濃度範圍)
+1200°C(取決於濃度範圍)
煙氣壓力 最高 2 bars (絕對值)
發射器 (Tx)顯示幕 4 x 20 LCD
通訊 Modbus RTU (RS485) / 乙太網 (RJ45) – Web伺服器
電源 + 24 V DC, 波紋和雜訊 50 mV
功耗 15 W (預熱)
< 15 W 標準使用時
建議溫度T° (環境溫度) -20°C 至 +55°C
IP index Tx & Rx 防護外殼 IP65
煙囪法蘭規格要求 DN50 PN16, 2’’ – 150 lbs, Class 150
法蘭材質 SS 316 L
空氣消耗量
(主吹掃 – 必要)
5-50 L/min (可根據現場條件進行調整)
(乾燥無油, ISO 8573.1 Class 2-3)
空氣消耗量
(二次吹掃 – 推薦)
2-3 L/min (乾燥無油, ISO 8573.1 Class 2-3)
適用煙囪直徑 從 0.5 至 20 m
注意 – 技術規格是在以下條件下定義的: 氣體溫度 = 25°C / 氣體壓力 = 1013 mbar / 路徑長度 = 100 cm / 環境溫度 = 25 °C
 
 

 

選項
接線箱 模擬輸入 I/O (2 x 4-20 mA/2 x 4-20 mA) – 數位輸出 (2個繼電器)
隔熱外殼 厚度:20毫米(100°C<Tp<300°C); 40毫米(300°C<Tp<600°C); 60毫米(Tp高於600°C)。
Audit Cell
Inline Cell
對齊工具
防風雨罩

 

產品型錄

https://www.etck.com.tw/download/LAS5000XD_catalog/

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